Proses etsa logam

Salah satu langkah kunci dalam pembuatan sirkuit terintegrasi adalah dengan menghilangkan lapisan film tipis yang tidak ditutupi oleh resist dan mendapatkan pola pada film tipis yang sepenuhnya konsisten dengan film resist .
Dalam proses pembuatan sirkuit terpadu, serangkaian operasi halus seperti penyelarasan masker, eksposur, dan pengembangan pertama-tama diperlukan untuk mereplikasi pola yang diinginkan dengan akurat pada film resist. Selain itu, berkas elektron presisi tinggi juga dapat langsung digunakan untuk menggambar pola yang diinginkan pada film resist.
Setelah menyelesaikan langkah ini, pola segera dipindahkan ke film tipis dielektrik (seperti silikon oksida, silikon nitride, silikon polikristalin) atau film tipis logam (seperti aluminium dan paduannya) di bawah lapisan resist dengan ketepatan yang sangat tinggi, sehingga menciptakan pola lapisan tipis pada lapisan film tipis yang sepenuhnya sesuai dengan persyaratan desain.

Proses etsa memainkan peran penting dalam proses ini, secara selektif menghapus lapisan film tipis yang tidak terlindungi melalui bahan kimia, fisik, atau kombinasi dari kedua metode, membentuk pola pada film tipis yang identik dengan yang ada pada film resist .Inti dari teknologi etsa terletak pada selektivitasnya, yaitu, hanya menghilangkan bagian -bagian yang tidak tertutup oleh penahanan sambil mempertahankan bagian -bagian yang dilindungi oleh resist .
Teknologi etsa terutama dibagi menjadi dua jenis: etsa kering dan etsa basah .Etsa kering terutama menggunakan gas reaktif dan plasma untuk etsa, sementara etsa basah terutama mencapai etsa melalui reaksi kimia antara reagen kimia dan bahan yang diukir, biasanya dalam lingkungan cair, menggunakan solusi kimia untuk secara selektif melarutkan bahan film tipis .
Dua metode etsa ini masing -masing memiliki kelebihan dan kekurangannya sendiri . dalam aplikasi praktis, mereka harus dipilih dan dioptimalkan sesuai dengan kebutuhan spesifik untuk memastikan bahwa pola lapisan tipis akhir yang diperoleh memenuhi persyaratan desain .